В учебном пособии рассматриваются в основном практические результаты по изменению параметров приповерхностных слоев материалов электронной техники ионным внедрением примесей. Приводятся результаты по особенностям распределения внедренной примеси в аморфных и кристаллических материалах и их теоретическое обоснование. Анализируются результаты по легированию приповерхностных слоев с использованием так называемых атомов отдачи при ионном внедрении.
Категория: электроника
Правообладатель: МИСиС
Год: 2012
Легальная стоимость: 496.00 руб.
Ограничение по возрасту: 0+
Комментарии ():