В практикуме рассматриваются принципы расчета режимов термического окисления, обеспечивающего заданную толщину маскирующей оксидной пленки, и режимов диффузии при формировании легированных слоев с заданными параметрами для кремниевых приборных структур. Излагается методика расчетов в программе Math Cad 2001.
Категория: материаловедение
Правообладатель: МИСиС
Год: 2007
Легальная стоимость: 120.00 руб.
Ограничение по возрасту: 0+
Комментарии ():