Современные требования к кремниевым пластинам большого диаметра

3.6 из 5, отдано 26 голосов

Приведены современные требования к геометрической точности изготовления пластин-подложек интегральных микросхем. Рассмотрены кремниевые подложки диаметром 150 и 200 мм, а также сапфировые подложки диаметром 100 мм. Описаны новые технологические операции, применяемые при производстве полупроводниковых пластин. Для студентов специальности «Проектирование и производство электронной аппаратуры» и «Проектирование и технология радиоэлектронных средств», изучающих курс «Микроэлектроника». Ил. 17. Табл. 8.

Категория: техническая литература

ISBN: 5-7038-2926-7

Правообладатель: МГТУ им. Н.Э. Баумана

Год: 2006

Легальная стоимость: 118.00 руб.

Ограничение по возрасту: 0+

Читать книгу «Современные требования к кремниевым пластинам большого диаметра» онлайн:

Комментарии ():